為(wèi)期三天的中國(guó)（深圳）机器视觉展暨机器视觉技术与工业应用(yòng)研讨会于深圳國(guó)际会展中心（宝安新(xīn)馆）圆满落下帷幕。
2023年11月1日，為(wèi)期三天的中國(guó)（深圳）机器视觉展暨机器视觉技术与工业应用(yòng)研讨会于深圳國(guó)际会展中心（宝安新(xīn)馆）圆满落下帷幕。
光场技术一直以来备受瞩目，此次展会期间，奕目科(kē)技现场展示了光场金線(xiàn)检测、屏幕缺陷分(fēn)层检测、密封钉缺陷检测、光场三维建模、光场变倍等一系列引人注目的光场技术应用(yòng)方案，吸引了广大观众驻足。现场人流涌动，展位精彩纷呈！
应用(yòng)方案简介
光场金線(xiàn)检测方案
Wirebond光场检测，為(wèi)传统金線(xiàn)检测带来了革命性的突破，支持随線(xiàn)全检，通过光场技术的应用(yòng)，可(kě)提前消除Wirebond工艺段异常带来的隐患，提升芯片后道封装良率，避免后端PCBA段损失。
场景方案：
1. 可(kě)检芯片类型: 金線(xiàn)線(xiàn)径:18≥μm；金線(xiàn)间距:2倍線(xiàn)径; 金線(xiàn)层数: ≤2层;
2. 可(kě)检芯片尺寸：≤5mmx5mm
3. 可(kě)检線(xiàn)高范围：100μm ≤H≤ 600μm
4. 缺陷类型: 多(duō)線(xiàn)、并線(xiàn)、球偏；少線(xiàn)、断線(xiàn)、球起、脚起；芯片脏污、划痕、崩边，金線(xiàn)塌線(xiàn)、紧線(xiàn)等;
5. 检测准确率:过检率: ≤0.1% 漏检率: ≤0.1%
6. 检测效率高:UPH>20000pcs
屏幕缺陷分(fēn)层检测方案
VOMMA光场屏幕缺陷三维检测方案，可(kě)通过单次拍照精准定位缺陷的层级信息和三维方位，从根本上防范屏幕缺陷带来的强制报废问题，帮助生产企业提高产品的质量和竞争力。
场景方案：
1. 可(kě)检屏幕膜材类型: 偏光片、LCD、OLED、Mini LED
2. 缺陷类型: 划痕，气泡，毛丝，灰尘，坏点等
3. 可(kě)进行芯片金線(xiàn)检测、偏振薄膜分(fēn)层检测
4. 无需投光、单次拍照、多(duō)维显示
5. Z轴重复精度达0.5μm
光场三维建模
光场三维建模方案可(kě)以利用(yòng)光场技术快速、准确地重建三维模型，為(wèi)设计、制造、科(kē)研等领域提供重要的参考和支持。
场景方案：科(kē)研高校实验室
1. 面向高校光學(xué)工程、集成電(diàn)路、智能(néng)制造、生物(wù)细胞學(xué)、電(diàn)子工程中三维数据采集微、薄、透光學(xué)检测;
2. 可(kě)用(yòng)于立體(tǐ)摄影、立體(tǐ)显微术、立體(tǐ)影像制作;
3. 可(kě)进行芯片金線(xiàn)检测、偏振薄膜分(fēn)层检测等
4. 无需投光、单次拍照、多(duō)维显示;
5. Z轴重复精度达0.5μm。
光场三维测距
除此之外，此次奕目科(kē)技带来了最新(xīn)研发的光场变焦和光场变倍、線(xiàn)扫光场检测方案，可(kě)以提供更加灵活、便捷的成像方式，满足客户不同场景下的检测需求。
光场变倍方案检测
線(xiàn)扫光场检测
多(duō)重对焦光场检测
向光而行 共谋新(xīn)篇
展会圆满落幕，奕目科(kē)技在本次展会上的光场方案展示获得了广大专家學(xué)者和企业家们的关注和认可(kě)，為(wèi)机器视觉技术的发展带来了新(xīn)的思路和解决方案。奕目科(kē)技将在光场视觉检测方面不断听取客户的需求，持续进行技术迭代，开发更准确、更高速、更智能(néng)的技术，成為(wèi)行业的领跑者。
在此，奕目科(kē)技也祝愿所有(yǒu)的合作伙伴，在接下来的日子里，能(néng)够稳定发展，高效运作，快速实现自己的目标和愿望。希望我们能(néng)够继续保持良好的合作关系，同心协力，共绘未来！
返回顶部
联系方式
产品选型
